HastelloyC-22主要產(chǎn)品有(無縫鋼管,圓鋼,棒料,棒材,板材,鍛件,法蘭,鋼帶,鋼錠,荒管,彎頭三通,無縫管，鋼管，管材，管子，焊管，管件，圓餅，圓環(huán)，鍛環(huán)，文丘里管，線材，絲材，焊絲，焊條，圓棒，棒子，光棒，黑皮棒料，毛細(xì)管，精軋管，鋼卷，螺栓，閥桿，大小頭，進(jìn)口板材，進(jìn)口焊絲等）

美國(guó)牌號(hào)：Hastelloy C-22，HC-22,哈氏C22合金,HC-22合金,N06022

物理性能：

密度： 8.69g/cm3

熔點(diǎn)： 1357-1399 °C

彈性模量： 205.5N/mm2

熱導(dǎo)率：11.1 W/m-K

硬度：HRC93

熱膨脹系數(shù)( 20 - 100°C)： 112.6 μ m/m °C

工作溫度約量： -200 至 +400°C

主要特征：C-22合金具有很好的抗點(diǎn)蝕、縫隙腐蝕和應(yīng)力腐蝕開裂能力。

用途舉例：二氧化硫冷卻塔、煙氣清洗器系統(tǒng)、磺化系統(tǒng)、地?zé)崞?、管式熱交換器等

品種規(guī)格：鍛件、棒材、板材、帶材、環(huán)件、絲材、螺栓、彈簧等協(xié)商供應(yīng)，可根據(jù)客戶要求生產(chǎn)

Hastelloy C-22下特性：

Hastelloy C-22合金是全能的鎳鉻鉬鎢合金，比其他的現(xiàn)有的鎳鉻鉬合金擁有更好的總體抗腐蝕性能，包括Hastelloy C-276、C4合金以及625合金。Hastelloy C-22合金有很好的抗點(diǎn)蝕，縫隙腐蝕和應(yīng)力腐蝕開裂能力。它具有的抗氧化水介質(zhì)能力，包括濕氯，硝酸或者含有氯化物離子的氧化性酸的混合酸。同時(shí)，Hastelloy C-22合金也有理想的的抵抗過程中遭遇的還原性和氧化性環(huán)境的能力。依靠這種的性能，它能在一些令人頭疼的環(huán)境中使用，或者在多種生產(chǎn)目的工廠中應(yīng)用。Hastelloy C-22合金對(duì)各種化工環(huán)境有著異常的抵御能力，包括強(qiáng)氧化性物質(zhì)，比如氯化鐵、氯化銅、氯、熱污染溶液（有機(jī)的無機(jī)的），甲酸、乙酸、醋酸酐、海水和鹽溶液等。Hastelloy C-22合金在焊接熱影響區(qū)有抵抗晶界沉淀形成的能力，這樣使它在焊接狀態(tài)下也能適應(yīng)很多種化工過程的應(yīng)用。

Hastelloy C-22 的金相結(jié)構(gòu):

Hastelloy C-22為面心立方晶格結(jié)構(gòu)。

Hastelloy C-22 的性:

Hastelloy C-22合金適用于各種含有氧化和還原性介質(zhì)的化學(xué)流程工業(yè)。較高的鉬、鉻含量使合金能夠耐氯離子的侵蝕，鎢元素也進(jìn)一步提高了其性。Hastelloy C-22是僅有的幾種能夠耐潮濕氯氣、次氯酸鹽以及二氧化氯溶液腐蝕的材料之一，該合金對(duì)高濃度的氯化鹽溶液具有的性（如氯化鐵和氯化銅）。

Co-Ni-P三元合金薄膜具有較高的矯頑力、較小的剩磁和優(yōu)良的電磁轉(zhuǎn)換熱性，可用于高密度磁盤等各種磁記錄系統(tǒng)。近年來，對(duì)薄膜的可靠性、耐磨性、耐腐蝕性和誤碼特性等的研究已取得較大進(jìn)展。就化學(xué)鍍Co-Ni-P合金工藝對(duì)鍍層沉積速率的影響做了較系統(tǒng)研究。余祖孝等分析了化學(xué)鍍Ni-Co-P合金工藝對(duì)其鍍層性能的影響。通過正交試驗(yàn)優(yōu)化了化學(xué)鍍Ni-Co-P合金工藝，并研究了熱處理對(duì)Ni-Co-P合金鍍層性能的影響。由于鈷的自催化能力比鎳差，鈷含量對(duì)鍍層的沉積速率及組織性能有顯著的影響。本工作以45鋼為基體化學(xué)鍍Ni-Co-P三元合金，主要研究Co*與(Co*+Ni*)不同摩爾濃度比對(duì)沉積速率及鍍層組織性能的影響。

試驗(yàn)
1.1 基材前處理
基體材料為45鋼， 尺寸：中12mmx5mm。前處理流程：砂紙打磨和機(jī)械拋光→電凈除油→清洗→2號(hào)活化液活化→清洗→3號(hào)活化液去除碳黑→清洗→化學(xué)鍍Ni-Co-P。電凈除油工藝：25.0g/L NaOH， 21.7g/LNa， CO， ， 50.0g/LNa， PO， 2.4g/L NaCl， 電壓12V， 正接； 2號(hào)活化液配方及參數(shù)：25.0g/L HCl， 140.1g/LNaCl， 電壓12V， 反接； 3號(hào)活化液配方及參數(shù)：141.2g/LNa， C， H， O， ·2H， O， 94.2g/LH， C。H， O， ·H， 0， 3.0g/LN iCl·6H， O， 電壓12V， 反接.
Ni-Co-P合金鍍層的制備
鍍液中主鹽總離子濃度(Ni*+Co+)為0.1mol/L， 其他組分和條件見表1。